在美国的步步紧逼，层层封锁下，用一部新机向世界证明了中国已在芯片领域实现了重大突破。那么作为制造芯片必不可少的光刻机从何而来？是如何完成研发的？目前网上已经有了一些“小道消息”。

根据网传信息，中国的光刻机走的是与ASML完全不同的两种路数，而且如果网传信息是真的话，那么真不得不佩服中国这群研发人员的创意，用一种任何人都想不到的方式，走上了“弯道超车”的道路。

还有微信聊天截图显示，中国的光刻机方案，与传统方案截然相反，如果要形象比喻的话，那就是“母猪喂奶”的路线。

“我没本事5米内控制光源在1nm移动，但我可以让光绕圈跑5000米啊”

“依靠着大力出奇迹，划一片地，盖一个超大型euv光源，一开机就跟死星启动一样，一个光源能带多个光刻厂”

要以上传闻是真的话，那我们真应该感谢美国，感谢他们搬起石头砸自己的脚，逼着中国科技进步了一大截。


                                        
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